domingo, 21 de marzo de 2010

Crecimiento epitaxial


 
La técnica de crecimiento epitaxial de semiconductores
en ultra alto vacío permite crecer capas de diferentes
materiales semiconductores con un control de espesor mejor que una monocapa.
Incorporacion de atomos en la superficie durante el crecimiento
El crecimento de heteroestructuras de pozo cuántico, superredes,
detectores y emisores de radiación. etc, puede realizarse combinando
 capas cristalinas de materiales con diferente gap de energía y/o dopaje.
Imagen
Sistema de crecimiento epitaxial de semiconductores



Nombre Franklin Quintero
Asignatura: EES


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